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CMP高精密研磨拋光機(jī) -KD36QS4

本研磨機(jī)為單面精密研磨拋光設(shè)備,被磨、拋工件放于研磨盤(pán)上,研磨盤(pán)逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng),通過(guò)摩擦力使工件自轉(zhuǎn),及加壓重塊對(duì)工件施壓,工件與研磨盤(pán)作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦,來(lái)達(dá)到對(duì)工件的研磨拋光目的。...
描述參數(shù)選配樣品

可對(duì)應(yīng)高精度少量的研磨加工

應(yīng)用:
半導(dǎo)體材料:Si、Ge、GaAs、藍(lán)寶石、SiC、InP、GaN、MEMS、陶瓷基板等
精密光學(xué):光學(xué)晶體、光學(xué)鏡頭、玻璃基板、ITO玻璃、藍(lán)寶石玻璃、濾波材料等
晶體材料:鈮酸鋰、鉭酸鋰、YAG、石英、紅外材料等

 

特點(diǎn):

伺服修盤(pán)系統(tǒng),確保磨盤(pán)足夠的平坦度。磨盤(pán)在線(xiàn)檢測(cè)恒溫系統(tǒng),防止工件變形及脫片。多段貨柔性加壓系統(tǒng),滿(mǎn)足復(fù)雜的加工工藝要求。數(shù)字化加液系統(tǒng),減少磨液損耗。四工位獨(dú)立變速控制系統(tǒng)。

參選型號(hào):